半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
工作视频背景
该品牌在广东省杭州市,首要跨专业一个半导体设备集成块的装封自测,日进行尾气排放标废储水量约200吨。犹豫产量流程中施用许多种化工去除剂的计量,废水治理 方法化学成分冗杂,有效高渗透压铜、镍等天价属以其环氧环氧胶环氧胶、光刻胶等设计废弃物物。品牌已有治理 措施时未能够满足新的进行尾气排放标标,人们非常版本升级提升。
废水处理方法有效成分及原因
真空电镀废液
:來都通常来自集成块引脚电渡工作,有效铜、镍、锡等高价属正离子,pH值下降大。
生产废液
:具体产于封口胶凝固、光刻生产技术,包含有氯化橡胶漆硅胶粘合剂、异丙醇、二甲苯等巧妙稀释剂。
腐蚀性废水处理工艺
:引发于晶圆拆洗和蚀刻环节,包含的氢脱色钠、氢脱色钠、氢脱色钠等。
加工加工过程流程步骤
预外理价段
酸性中合
:经由加量系统软件调低pH至6-9,解决险遭清理主设备腐化。
混泥土水解
:污泥脱水PAC(整合氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),消除飘浮物和大部分血本属。
关键外理的阶段
中高级被氧化
:适用Fenton免疫试剂(H₂O₂+Fe²⁺)分离难化学降解有机质物,COD清除率达70%之上。
膜滤水
:超滤膜(UF)+反侵入(RO)女子组合方法,进一歩挪用天价属和溶水性酚类化合物物。
强度外理周期
铁离子对换
:主要面对铜、镍铁离子,为了保证满水后血本属占比小于0.5mg/L。
活性酶炭吸收
:对于终于保驾护航,我们要除余留轻微有机肥料物。
最中使用效果
经进行处理后,水流饮污水质达标《电子器材工业生产水环境污渍排放口条件》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,工业废水处理率增强至60%,每一年的得节约污水的成本约80W。