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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

大型项目情况 该半导体技术制作公司最靠近华北国家,大部分种植一体化线路存储芯片,日产生出含氟生产污废水 约800吨。是因为是时间环保健康标准规范增进,原先的加工整理体系是无法考虑氟化物产生出盐浓度远低于5mg/L的新必须,公司融资1400万元扩建靠谱含氟生产污废水 加工整理程序。 工业废水材质及源头 废水处理工艺关键来历于处理器打造具体步骤中的刻蚀工艺技术和除污工艺技术,关键严重工业废气分为: 氟亚铁离子浓度值:300-800mg/L pH值:2- 具有刺激性极少量硅酸盐、聚磷酸盐 少量天价属如铜、镍等 正确处理技术方案 运用"预处里+化学物质放置+程度处里"搭配工艺流程: 改善池:动态平衡水质标准用水量,设施pH线下监测系统 1阶段作用池:加药系统氢硫化钙,保持pH至7-8,形成了氟化钙结晶 6级析出池:析出脱离氟化钙污水 2级想法池:污泥脱水氯化钙和汇聚氯化铝,进一歩消除残存氟阳离子 二级考试凝固自己池:四次凝固自己隔离 砂滤操作系统:除掉悬停物 吸附性性炭吸附性:洗去巧妙物和少量高价属 厌氧颗粒污泥干化治理 软件系统:板框压滤脱水怎么办,厌氧颗粒污泥干化含水量率降下来60%下列 终极功能 体统加载稳定的后,喷水水源: 氟铁离子浓度值:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属含量均压低验出限 仍然达到《光电鑫霖环保水影响物废气排放物标准的》(GB39731-2020)规范要求,年降低氟化物废气排放物约180吨。

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