顶目图片背景 该半导体设备制造业企业坐落长半圆沿海地区，其主要加工89英尺和129英尺晶圆，日排污废发电量约2000吨。伴随加工加工过程冗杂，废水内包含种难溶解生产物和天价属阴阳离子，过去补救技巧难于充分满足急剧严谨的排污要求。 废气因素及起源 生活污水重要来源地于两个步骤：晶圆激光分割生活污水内含大批量硅粉和激光分割液残余；物理机械性打蜡 生活污水丰富电解质溶液硅和研磨机小粒；刻蚀擦洗生活污水内含氟化物、铜化合物等高价属；光刻工序生活污水则内含光阻剂等巧妙的污染。饮用水基本特征是COD高（800-1500mg/L）、氟化物溶液浓度高（200-400mg/L）、悬浮按钮物多且内含氢化物发生器高价属。 处理工艺设备过程 用"化学预操作+生物化操作+长度操作"的三人组合方法： 调节器池动态平衡水质检测发电量 沥青混凝土析出弄掉自动隐藏物和胶体溶液化合物 电化学发展法特别办理氟化物，污泥脱水钙盐生成氟化钙发展 溶解碱化池上升废液可生化模式性 交往阳极氧化池吸附有机肥料空气环境有害特性 渗透性炭过滤塔来进一步治理 膜区分软件切实保障出水量水的硬度安全稳定 对于含铜焦化废水设定设施正离子交易系统软件，的回收利用有價值的合金材料铜。 终结效率 工程修建后作业固定，出液COD<50mg/L，氟化物浓硫酸含量<5mg/L，铜铁离子浓硫酸含量<0.3mg/L，每项要求均远低于一个国家《电子器材工业生产水弄脏物排卸标》（GB 39731-2020）。一年可可以减少COD排卸约300吨，氟化物排卸约50吨，收集铜金属材料约2吨，实行了工作环境经济增长发展与经济增长经济增长发展的互惠互利。